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大体标本成像如何对光线进行反卷积运算

对光线进行反卷积运算是光学成像领域的成熟技术,最早由美国国家航空航天局开发并成为观察微弱天体信号的标准技术。大体标本成像去卷积和共聚焦技术是光学显微镜领域获得单一焦平面光线的两大主流技术(J.M.Murray, live cell imaging, 2010)。。

大体标本成像


通过将非焦平面的光线还原至焦平面上,大大提高了样品信号的强度以及图像的信噪比。由于去卷积技术设计到大量的后期运算,因此在高性能计算机发明以前,一直受制于运算能力,没有得到大规模的推广。

随着近年来计算机性能的大幅提升和价格的下降,去卷积技术逐渐成为光学显微镜的主流技术。一个点光源经过显微镜的光路,由于镜片对光线的衍射和散射,最终呈现在观察者面前的是一个模糊的点。

所以点光源变成模糊的点的过程即为卷积。反卷积就是把模糊的点还原成点光源的过程。共聚焦显微镜它采用点光源 照射标本,在焦平面上形成了一个轮廓分明的小的光点,该点被照射后发出的荧光被物镜收集,并沿原照射光路回送到探测器。

探测器前方有一个针孔(pinhole) ,几何尺寸可调。这样,来自焦平面的光,大体标本成像可以会聚在探测针孔范围之内,而其它来自焦平面上方或下方的散射光,都被挡在探测针孔之外而不能成象。



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